ソフトマスク

ソフトマスクは、半導体製造において光リソグラフィ工程で使用される可変形のマスク材料で、光学的に透過性の高いシリコンや金属薄膜を含む柔軟な基材にパターンを転写する技術です。従来の硬質マスクに比べて、微細パターンの再現性が高く、欠陥の少ない回路を実現できるため、ナノスケールの集積回路設計に不可欠です。